Získejte slevu 5 % na každý nákup díky registraci v našem e-shopu.
Novinka

Rozjasňující podkladová báze pod make-up 2-v-1 ARTISTRY STUDIO™ Shanghai

  • 1 z 2

Podkladová báze pod make-up 2-v-1, která zdokonaluje a chrání Vaši pleť a přitom jí dodává rozjasněný vzhled à la Šanghaj.

Velikost: 30 g

  • 970 Kč 101 Kč –10 %
  • Skladem
869 Kč
Kategorie: ARTISTRY STUDIO™ Shanghai
Dle účelu použití: Rozjasnění pleti, Vyhlazení pleti
Produktové řady: Artistry Studio™
Kategorie produktů: Dekorativní kosmetika
Dle typu produktu: Make-upy
 

Lehká, nemastná podkladová báze, která připravuje pleť na líčení a přitom jí dodává zářivost plnou života a zajišťuje jí ochranu v městském prostředí.

Čím Vás může zaujmout

  • Usnadňuje nanášení a trvanlivost make-upu
  • Vytváří hladký a bezchybný podklad
  • Přispívá ke zjemnění textury pleti
  • Udržuje make-up i pleť svěží po celé hodiny
  • Chrání před znečištěním a agresivními látkami v městském prostředí.

Proč se Vám bude líbit

Tato podkladová báze, inspirovaná leskem šanghajských hedvábných textilií výrazných barev, vytváří hladký, svěží a rovnoměrný podklad, který se dokonale hodí k nanášení tekutého make-upu a přitom chrání Vaši pleť před negativními účinky znečištění a stresovými faktory životního prostředí. Začněte s líčením v šanghajském stylu: svěží dokonalost a ochrana v městském prostředí.

Mohlo by Vás zajímat

  • Obsahuje granátové jablko ze zdrojů NUTRILITE™, které chrání před znečištěním a agresivními látkami v městském prostředí
  • Nemastný a lehký výrobek umožňuje snadné nanášení
  • Ochrana a efekt zářivosti vydrží po celý den.

Návod k použití

  • Nanášejte na čistou pleť po úplném vstřebání hydratačního přípravku a před nanesením make-upu.
  • Použijte malé množství a rovnoměrně je rozetřete po celém obličeji
  • Naneste svůj oblíbený make-up nebo CC krém.

Jde to i jinak:
Dejte líčení šťávu a zkombinujte podkladovou bázi s ARTISTRY IDEAL RADIANCE™ Rozjasňujícím CC krémem SPF 50. Společně dodají Vaší pleti přirozenou záři, která vypadá, jako by vycházela zevnitř.

Složení

WATER/AQUA/EAU, DIMETHICONE, ALCOHOL DENAT., DIPHENYLSILOXY PHENYL TRIMETHICONE, CAPRYLYL METHICONE, TRIMETHYLSILOXYPHENYL DIMETHICONE, SYNTHETIC FLUORPHLOGOPITE, BORON NITRIDE, C12-15 ALKYL BENZOATE, GLYCERIN, LAURYL PEG-9 POLYDIMETHYLSILOXYETHYL DIMETHICONE, PENTYLENE GLYCOL, PROPANEDIOL, DIMETHICONE/PEG-10/15 CROSSPOLYMER, SODIUM CHLORIDE, SODIUM CITRATE, SILICA, ISONONYL ISONONANOATE, BUTYLENE GLYCOL, DISODIUM EDTA, SALVIA HISPANICA SEED EXTRACT, DIPROPYLENE GLYCOL, PUNICA GRANATUM FRUIT EXTRACT, IODOPROPYNYL BUTYLCARBAMATE, TOCOPHEROL, PHENOXYETHANOL, PROPYLENE GLYCOL, TRIETHOXYCAPRYLYLSILANE. MAY CONTAIN / PEUT CONTIENIR / PUEDE CONTENER/ +/- MICA (CI 77019), IRON OXIDES (CI 77491), TITANIUM DIOXIDE (CI 77891).

Často kladené otázky

Jak lze ARTISTRY STUDIO™ Podkladovou bázi pod make-up 2-v-1 odlíčit?
K odlíčení použijte ARTISTRY™ Odličovač očí a rtů.

Jaké složky ARTISTRY STUDIO Podkladová báze pod make-up 2-v-1 neobsahuje?
- Parabeny
- Parfemaci 

 

 

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Pouze registrovaní uživatelé mohou vkládat články. Prosím přihlaste se nebo registrujte.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Přidat hodnocení
Nevyplňujte toto pole:

ARTISTRY neustále posouvá hranice krásy. Inspiruje nás příroda, a proto se snažíme objevovat nejvytříbenější rostlinné složky.
A jelikož účinnost je pro nás vždy na prvním místě, přinášíme Vám prostřednictvím vědecky vyspělých a vysoce účinných přípravků
jeden průlomový objev za druhým.

Historie značky: Příběh značky ARTISTRY začal v 50. letech 20. století, kdy se podnikatelský manželský pár inspirovaný přírodou a inovací rozhodl spojit vědu, výživu a umění a začít vyvíjet převratná řešení v oblasti péče o pleť.

Všechny výrobky si můžete prohlížet a vybírat dle typu pleti a účelu použití v kategoriích Artistry péče o pleť anebo Artistry dekorativní kosmetika.

 
Tento web používá soubory cookie. Dalším procházením tohoto webu vyjadřujete souhlas s jejich používáním. Více informací zde.